Contributions To Plasma Physics SCIE

國(guó)際簡(jiǎn)稱：CONTRIB PLASM PHYS 參考譯名：對(duì)等離子體物理學(xué)的貢獻(xiàn)

主要研究方向：物理-物理：流體與等離子體非預(yù)警期刊審稿周期：偏慢,4-8周

《對(duì)等離子體物理學(xué)的貢獻(xiàn)》(Contributions To Plasma Physics)是一本由Wiley-VCH Verlag出版的以物理-物理：流體與等離子體為研究特色的國(guó)際期刊，發(fā)表該領(lǐng)域相關(guān)的原創(chuàng)研究文章、評(píng)論文章和綜述文章，及時(shí)報(bào)道該領(lǐng)域相關(guān)理論、實(shí)踐和應(yīng)用學(xué)科的最新發(fā)現(xiàn)，旨在促進(jìn)該學(xué)科領(lǐng)域科學(xué)信息的快速交流。該期刊是一本未開(kāi)放期刊，近三年沒(méi)有被列入預(yù)警名單。

4區(qū) 中科院分區(qū)
Q3 JCR分區(qū)
66 年發(fā)文量
1.3 IF影響因子
未開(kāi)放 是否OA
42 H-index
1985 創(chuàng)刊年份
Bimonthly 出版周期
Multi-Language 出版語(yǔ)言

Aims and Scope of Contributions to Plasma Physics:

Basic physics of low-temperature plasmas;

Strongly correlated non-ideal plasmas;

Dusty Plasmas;

Plasma discharges - microplasmas, reactive, and atmospheric pressure plasmas;

Plasma diagnostics;

Plasma-surface interaction;

Plasma technology;

Plasma medicine.

[ 查看全部 ]

投稿咨詢加急咨詢

Contributions To Plasma Physics期刊信息

ISSN：0863-1042
出版語(yǔ)言：Multi-Language
是否OA：未開(kāi)放
E-ISSN：1521-3986
出版地區(qū)：GERMANY
是否預(yù)警：否
出版商：Wiley-VCH Verlag
出版周期：Bimonthly
創(chuàng)刊時(shí)間：1985
開(kāi)源占比：0.106
Gold OA文章占比：13.75%
OA被引用占比：0.0325...
出版國(guó)人文章占比：0
出版撤稿占比：0
研究類文章占比：96.97%

Contributions To Plasma Physics CiteScore評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)（2024年最新版）

CiteScore

SJR

SNIP

CiteScore 指數(shù)

2.9

0.351

0.601

學(xué)科類別	分區(qū)	排名	百分位
大類：Physics and Astronomy 小類：Condensed Matter Physics	Q3	252 / 434	42%

名詞解釋：CiteScore 是衡量期刊所發(fā)表文獻(xiàn)的平均受引用次數(shù)，是在 Scopus 中衡量期刊影響力的另一個(gè)指標(biāo)。當(dāng)年CiteScore 的計(jì)算依據(jù)是期刊最近4年（含計(jì)算年度）的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻(xiàn)數(shù)。例如，2022年的 CiteScore 計(jì)算方法為：2022年的 CiteScore =2019-2022年收到的對(duì)2019-2022年發(fā)表的文件的引用數(shù)量÷2019-2022年發(fā)布的文獻(xiàn)數(shù)量注：文獻(xiàn)類型包括：文章、評(píng)論、會(huì)議論文、書(shū)籍章節(jié)和數(shù)據(jù)論文。

Contributions To Plasma Physics中科院評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)

中科院 2023年12月升級(jí)版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	物理與天體物理	4區(qū)	PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	4區(qū)

中科院 2022年12月升級(jí)版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	物理與天體物理	3區(qū)	PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	4區(qū)

中科院 2021年12月舊的升級(jí)版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	物理與天體物理	4區(qū)	PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	4區(qū)

中科院 2021年12月基礎(chǔ)版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	物理	4區(qū)	PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	4區(qū)

中科院 2021年12月升級(jí)版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	物理與天體物理	4區(qū)	PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	4區(qū)

中科院 2020年12月舊的升級(jí)版

Top期刊	綜述期刊	大類學(xué)科		小類學(xué)科
否	否	物理與天體物理	4區(qū)	PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體	4區(qū)

Contributions To Plasma Physics JCR評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)（2023-2024年最新版）

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)	收錄子集	分區(qū)	排名	百分位
學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS	SCIE	Q3	29 / 40	28.7%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)	收錄子集	分區(qū)	排名	百分位
學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS	SCIE	Q3	26 / 40	36.25%

Contributions To Plasma Physics歷年數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)

影響因子

中科院分區(qū)

Contributions To Plasma Physics中國(guó)學(xué)者發(fā)文選摘

1、Experimental study of the discharge characteristics of a 3D vortex gliding arc plasmatron
Author: You, Tiancheng; Wang, Cheng; Yang, Chengpeng; Wang, Fangquan; Xia, Weidong

Journal: CONTRIBUTIONS TO PLASMA PHYSICS. 2023; Vol. 63, Issue 2, pp. -. DOI: 10.1002/ctpp.202200120
2、Effect of external fields on pattern formation of charged grains in plasma
Author: Chen, Zhidong; Li, Mengdie; Li, Jinfeng; Wang, Youmei; Yu, Ming-Young

Journal: CONTRIBUTIONS TO PLASMA PHYSICS. 2023; Vol. 63, Issue 2, pp. -. DOI: 10.1002/ctpp.202200106
3、Research on characteristics of decoupled electroaerodynamic thruster with auxiliary electrode
Author: Zhou, Desheng; Liu, Qiang; Tang, Jingfeng; Zhang, Haoran; Zhou, Liwei; Wei, Liqiu; He, Yongfeng

Journal: CONTRIBUTIONS TO PLASMA PHYSICS. 2023; Vol. 63, Issue 3-4, pp. -. DOI: 10.1002/ctpp.202200184
4、Small-amplitude kinetic Alfven solitons for hot electrons taking regularized kappa distribution in Earth's inner magnetosphere
Author: Li, Yushu; Liu, Yong

Journal: CONTRIBUTIONS TO PLASMA PHYSICS. 2023; Vol. , Issue , pp. -. DOI: 10.1002/ctpp.202300009
5、EMC3
Author: daishuyu

Journal: CONTRIBUTIONS TO PLASMA PHYSICS, 2016.
6、The Organosilicon thin Film Deposited Using an Atmospheric Pressure Dual
Author: yqh0669

Journal: CONTRIBUTIONS TO PLASMA PHYSICS, 2016.
7、Numerical Modeling on Heat Transport Across Stochastic Magnetic Field
Author: xjzha

Journal: CONTRIBUTIONS TO PLASMA PHYSICS, 2016.