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    • 首頁 > SCI期刊 > 物理與天體物理期刊 > Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems(非官網(wǎng))

      Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems SCIE

      國際簡稱:J MICRO-NANOLITH MEM  參考譯名:微納光刻技術(shù)雜志

      主要研究方向:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY  非預警期刊  審稿周期: 較慢,6-12周

      《微納光刻技術(shù)雜志》(Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems)是一本由SPIE出版的以ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY為研究特色的國際期刊,發(fā)表該領域相關(guān)的原創(chuàng)研究文章、評論文章和綜述文章,及時報道該領域相關(guān)理論、實踐和應用學科的最新發(fā)現(xiàn),旨在促進該學科領域科學信息的快速交流。該期刊是一本未開放期刊,近三年沒有被列入預警名單。該期刊享有很高的科學聲譽,影響因子不斷增加,發(fā)行量也同樣高。

      • 2區(qū) 中科院分區(qū)
      • Q3 JCR分區(qū)
      • 0 年發(fā)文量
      • 未開放 是否OA
      • 37 H-index
      • 2007 創(chuàng)刊年份
      • Quarterly 出版周期
      • English 出版語言

      The Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS (JM3) publishes peer-reviewed papers on the science, development, and practice of lithographic, fabrication, packaging, and integration technologies necessary to address the needs of the electronics, microelectromechanical systems, micro-optoelectromechanical systems, and photonics industries.

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      Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems期刊信息

      • ISSN:1932-5150
      • 出版語言:English
      • 是否OA:未開放
      • E-ISSN:1932-5134
      • 出版地區(qū):UNITED STATES
      • 是否預警:
      • 出版商:SPIE
      • 出版周期:Quarterly
      • 創(chuàng)刊時間:2007
      • 開源占比:0.0769
      • Gold OA文章占比:7.69%
      • OA被引用占比:
      • 出版國人文章占比:0
      • 出版撤稿占比:
      • 研究類文章占比:0.00%

      Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems CiteScore評價數(shù)據(jù)(2024年最新版)

      CiteScore SJR SNIP CiteScore 指數(shù)
      3.4 0.393 1.723
      學科類別 分區(qū) 排名 百分位
      大類:Engineering 小類:Mechanical Engineering Q2 299 / 672

      55%

      大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 389 / 797

      51%

      大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q3 113 / 224

      49%

      大類:Engineering 小類:Condensed Matter Physics Q3 223 / 434

      48%

      大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 155 / 284

      45%

      名詞解釋:CiteScore 是衡量期刊所發(fā)表文獻的平均受引用次數(shù),是在 Scopus 中衡量期刊影響力的另一個指標。當年CiteScore 的計算依據(jù)是期刊最近4年(含計算年度)的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻數(shù)。例如,2022年的 CiteScore 計算方法為:2022年的 CiteScore =2019-2022年收到的對2019-2022年發(fā)表的文件的引用數(shù)量÷2019-2022年發(fā)布的文獻數(shù)量 注:文獻類型包括:文章、評論、會議論文、書籍章節(jié)和數(shù)據(jù)論文。

      Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems中科院評價數(shù)據(jù)

      中科院 2023年12月升級版

      Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
      物理與天體物理 2區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

      中科院 2022年12月升級版

      Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
      物理與天體物理 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

      中科院 2021年12月舊的升級版

      Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
      工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

      中科院 2021年12月基礎版

      Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
      工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

      中科院 2021年12月升級版

      Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
      工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

      中科院 2020年12月舊的升級版

      Top期刊 綜述期刊 大類學科 小類學科
      工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

      Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems JCR評價數(shù)據(jù)(2023-2024年最新版)

      按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
      學科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 187 / 275

      32.2%

      學科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 255 / 342

      25.6%

      學科:NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY SCIE Q4 91 / 107

      15.4%

      學科:OPTICS SCIE Q3 68 / 100

      32.5%

      Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems歷年數(shù)據(jù)統(tǒng)計

      影響因子
      中科院分區(qū)

      Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems 投稿服務中心

      正規(guī)發(fā)表流程、出刊快、可加急、SCI檢索

      Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems同類期刊

      免責聲明

      若用戶需要出版服務,請聯(lián)系出版商:SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225。

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